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9納米光刻機(jī)問世

來(lái)源：成都新德南光機(jī)械設(shè)備有限公司 | 發(fā)布時(shí)間：2019-04-24 |

中國(guó)9納米光刻機(jī)成功問世！不走尋常路，打破西方技術(shù)封鎖
光刻機(jī)，也稱為光刻曝光系統(tǒng)，是人類文明的主要技術(shù)之一，其主要目標(biāo)是制造芯片。到目前為止，任何優(yōu)質(zhì)芯片必須具有非常重要的光刻機(jī)。這是可以做到的，我們必須承認(rèn)，這樣的發(fā)達(dá)國(guó)家美國(guó)在這方面已經(jīng)做得很好了，中國(guó)在這一領(lǐng)域始終受制于他人。西方等發(fā)達(dá)國(guó)家形成的技術(shù)壁壘完全阻礙了科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域的研究，這個(gè)定制也使得中國(guó)在芯片領(lǐng)域沒有太大的發(fā)展。因此，很久以前，中國(guó)有大量投資開發(fā)自己的芯片制造機(jī)器，即光刻機(jī)。
 
光刻機(jī)性能指數(shù)可以從許多方面，如支撐基片尺寸范圍、分辨率、精度的對(duì)準(zhǔn)和曝光模式進(jìn)行評(píng)估。近日，據(jù)來(lái)自媒體報(bào)道，中國(guó)武漢光電中心甘棕松團(tuán)隊(duì)是完全自身發(fā)展的成功執(zhí)行線段9納米的光刻學(xué)習(xí)，你可以說(shuō)它是一種非常規(guī)的方式，這打破了西方國(guó)家的技術(shù)壁壘。作為芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵器件，最好的光刻機(jī)技術(shù)一直掌握在西方發(fā)達(dá)國(guó)家手中。最重要的是，這些設(shè)備都很難買到。因?yàn)樗械奈鞣絿?guó)家知道，一旦中國(guó)支配這種類型的光刻機(jī)不可避免地會(huì)大力進(jìn)行在芯片領(lǐng)域的發(fā)展，因此，威脅發(fā)達(dá)國(guó)家市場(chǎng)在芯片領(lǐng)域長(zhǎng)期存在。
 
在光技術(shù)制造的專家小組稱高科技制造業(yè)的傳統(tǒng)方式是完全無(wú)法實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)的精度高，所以它只能做通過其他方法的光刻機(jī)來(lái)屬于我們中國(guó)，但離工業(yè)生產(chǎn)有一段時(shí)間。但這肯定是一個(gè)良好的開端，這也為西方國(guó)家敲響了警鐘，簡(jiǎn)單的技術(shù)封鎖無(wú)法阻止中國(guó)的發(fā)展。